膜厚試驗(yàn)是應(yīng)用于在線膜厚測量，測氧化物，SiNx，感光保護(hù)膜和半導(dǎo)體膜。也可以用來測量鍍在鋼、鋁、銅、陶瓷和塑料等上的粗糙膜層。薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān)，因此可通過計(jì)算得到薄膜的厚度，光干涉法是一種無損，精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)，薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度。

金相顯微鏡法

利用顯微鏡光學(xué)原理，對物體進(jìn)行放大，可以觀察到物體表面或斷面的金相顯微結(jié)構(gòu)。

庫倫法

根據(jù)庫侖定律,以溶解鍍層金屬消耗的電量、溶解鍍層面積、鍍層金屬的電化當(dāng)量、密度以及陽極溶解的電流效率計(jì)算鍍層的局部厚度。

磁性法

利用磁通量隨涂膜的非磁性層在磁體和底材之間厚度的變化而變化的原理來測定磁性金屬(鐵基)底材上的涂膜厚度。

電渦流法

利用感應(yīng)渦流隨儀器探頭線圈與基礎(chǔ)金屬間涂膜厚度的大小變化來測定非磁性金屬(非鐵基)底材上非導(dǎo)電涂層膜厚。

X光射線法

X射線射到電鍍層表面，產(chǎn)生X射線熒光，根據(jù)熒光譜線元素能量位置及其強(qiáng)度確定鍍層組成及厚度。